- 商品介绍
产品介绍 Overview
STP 磁悬浮涡轮分子泵是长时间无碳氢化合物的泵操作的首选泵。多轴磁力轴承系统用于在运行期间悬起转轴，确保无污染的风险，同时将振动、噪声以及维护需求降至最低。STP 泵可与各种先进的控制器全面连接，从而可用于多种应用和制程中。
Edwards 防腐蚀 STP603C 是新型的涡轮分子泵，可用于大多数高端的半导体应用。Edwards 的转子技术可实现一流的性能，最大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。
产品特点 Features
先进的转子技术 最大的制程灵活性
无油
低振动
高度可靠
免维护
先进的控制器设计 自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计 占地面积小
半机架控制器
技术参数 Specifications
| 入口法兰 | ISO160F |
| 出口 | KF40 |
| 抽速 | |
| N2 | 650 ls-1 |
| H2 | 550 ls-1 |
| 压缩比 | |
| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 加热时的极限压力（VG/ISO 法兰） | 6.5 x 10-6 Pa |
| (5 x 10-8 Torr) | |
| 加热时的极限压力（ICF 法兰） | 10-7 Pa |
| (10-9 Torr) | |
| 最大连续出口压力 | 13 Pa (0.1 Torr) |
| 额定速度 | 35000 rpm |
| 启动时间 | 6 分钟 |
| 最高入口法兰温度 | 120 °C |
| 输入电压 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
| 200 至 240 (± 10) V 交流 | |
| 启动时的功耗 | 0.8 kVA |
| 泵重量 | 31 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
产品尺寸 Dimensions
产品应用 Applications
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
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