- 商品介绍
普发分子泵(Pfeiffer Molecular Pumps)是由德国普发真空(Pfeiffer Vacuum)公司制造的一系列高性能涡轮分子泵,广泛应用于需要创造和维持极高真空环境的各种高科技领域,如科学研究、半导体制造、镀膜技术、分析仪器、以及其它精密工业应用。以下是对普发分子泵的主要特点、技术优势以及典型应用场景的简介:
技术特点与优势:
超高真空性能:普发分子泵能够创造出相对压力低于10^-8 Pa的超高真空环境,这对于需要极低气体残留的精密实验和工艺流程至关重要。
高效抽速:产品线覆盖了广泛的抽速范围,从10升/秒(l/s)至3000升/秒,以适应不同规模和要求的真空系统。例如,HiPace 1800型号的抽速可达1450 l/s,而HiPace 60P型号的抽速为64 l/s。
高转速与低返流:普发分子泵采用先进的涡轮叶片设计,实现超过400米/秒的圆周速度,确保高效的气体传输和压缩。这有助于在泵内形成深度真空,并降低气体返流至前级泵的可能性。
稳定性和耐用性:具备出色的机械结构和耐受力,泵外壳经过严格设计和认证,确保在高速运转下的安全性。例如,通过UL 61010和/或Semi S2认证,表明其符合严格的机械安全标准,同时具有防火和转速过高的双重保护。
综合自我保护机制:内置多种自我保护功能,如过热保护、转速监控等,以保障泵的长期稳定运行和故障预防。
环境适应性强:对环境温度、震动、磁场等外部因素影响较小,使得普发分子泵能够在多种工作条件下保持良好性能,降低了对使用环境的苛刻要求。
防腐蚀与耐蒸汽:针对特定应用,普发提供防腐蚀型号,能够处理腐蚀性气体和蒸汽,满足特殊实验或生产工艺中对腐蚀防护的需求。
模块化设计与灵活性:分子泵设计紧凑,易于集成到现有系统中。部分型号支持360°任意角度安装,且可配置小型前级泵,以降低整个系统的复杂度和成本。此外,如HiPace 80 Neo等型号还采用了分流式设计(SplitFlow),增加了操作的灵活性。
易于维护与可靠性:普发分子泵通常具有长寿命和低维护需求,部分型号集成氮气吹扫阀,便于清洁和维护。长期稳定性好,降低了客户的维护成本和停机时间。
应用场景:
科学研究:在物理、化学、材料科学等领域,用于搭建高真空实验装置,如质谱分析、表面科学仪器、粒子加速器等。
半导体制造:在芯片制造过程中,为光刻、沉积、刻蚀等关键步骤提供所需的超洁净真空环境。
镀膜技术:在光学元件、太阳能电池、显示器等产品的薄膜沉积工艺中,保证高质量的薄膜生长条件。
分析仪器:作为比表面孔径分析仪等精密测量设备的核心部件,确保测量结果的准确性。
工业应用:如电子束焊接、真空干燥、真空包装等,以及任何需要高真空度以避免氧化、污染或其他气体干扰的生产过程。
综上所述,普发分子泵凭借其卓越的真空性能、可靠性、适应性和易用性,在众多需要极高真空度的领域中扮演着不可或缺的角色。德国普发真空作为全球分子泵领域的领导者,持续创新并提供满足不同客户需求的定制化解决方案。
普发(Pfeiffer)分子泵具备以下显著特点:
高效抽速:例如,普发HiPace700H涡轮分子泵针对氮气(N2)的最高抽速可达685升每秒,而HiPace 30型号针对氮气则有最高32升每秒的抽吸能力,适应不同规模的真空需求。
紧凑设计:普发分子泵因其结构紧凑而受到赞誉,这使得它们能在有限的空间内提供强大的真空抽取性能,并易于集成到各类分析仪器和小型系统中。
高性能表现:普发涡轮分子泵能达到超过400米/每秒的圆周速度,从而实现高效的气体传输和抽取,同时拥有同类产品中较高的压缩比。
安全性与稳定性:普发真空涡轮分子泵通过了如UL 61010和/或Semi S2等安全认证,确保了其在运行过程中的机械安全性和防火保护,并具备转速过高保护机制。
多功能适应性:普发分子泵能创造高达10-8托以上的超高真空环境,具有良好的防腐蚀性能,能应对腐蚀性气体和蒸汽的吸附测试需求,受环境温度、震动和磁场的影响较小,提高了仪器使用的稳定性和可靠性。
维护便捷:普发分子泵具有较长的维护保养间隔时间,降低了客户的维护成本和复杂度,同时表现出良好的长期稳定性。
模块化设计:普发分子泵可配置小型前级泵,以降低整个系统的成本,并可以根据客户需求提供多种安装方位选择,甚至包括特定型号的防腐蚀设计,满足多样化应用场合的需求。
北京帕托真空技术有限公司
https://www.pator.cn/ 400 0968156 手机号码:139-1044-9035
型号 | HIPace@80,具月1C110,DN 63 SO-K |
2707-0perating voltage:V DC | 24 (±5 %)V DC |
Ar的压缩比 | >1.1011 |
Ar的抽速 | 66 l/s |
Ar的zu终转速时的气体流量 | 0.54 hPa l's |0.41 Torr l/s |0.54 mbar l/s |
H2的压缩比 | 1.4·10° |
H2的抽速 | 48 l/s |
H2的zu终转速时的气体流量 | 15.3 hPa Us |11.47 Torr l's |15.3 mbar l/s |
He 的压缩比 | 1.3.107 |
He 的抽速 | 58 Vs |
He 的zui终转速时的气体流量 | 2.7 hPa l's |2.02 Torr Us |2.7 mbar Vs |
VO 接口 | RS-485.远程 |
N2 的压缩比 | >1.1011 |
N2 的抽速 | 67 Vs |
N2 的zui大预真空 | 22 百帕 |
N2的zui终转速时的气体流量 | 1.3 hPa Vs |0.97 Torr ls 1.3 mbar Vs |
不带气镇的zui终压力 | <1.10"百帕5-25C摄氏度 |
允许冷却水的温度 | 75 Wh |
冷却水消耗zui小值 | 75W |
冷却水耗量 | 75 Vh |
冷却类型,可选项 | 空气!冰 |
冷却类型,标准 | 对流 |
声压水平 | ≤48 dB(A)分贝(A) |
安装方向 | 任何 |
排气连接 | G 1/8" |
方位 | 混合动力 |
zui大允许磁场 | 3.8 mT |
根据 PNEUROP 的zui终压力 | <1.10-百帕 |
电子驱动单元 | 带有 TC 110 |
电流zui大值 | 4.6A |
耗电量 max | 110 瓦 |
转速 +2% | 90,000 rpm |90,000 min' |
转速可变化 | 50-100 % |
运行时间 | 1.7分 |
连接法兰(入口) | DN 63 ISO-K |
连接法兰(出口) | DN 16 ISO-KF/G ¼" |
重量 | 2.4 千克 |
防护等级 | IP54 |
工业应用:如电子束焊接、真空干燥、真空包装等,以及任何需要高真空度以避免氧化、污染或其他气体干扰的生产过程。
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